7月14日，上海萬業企業股份有限公司(股票代碼：600641.SH)發布了2023年上半年的業績預告。據公告表示，預計萬業企業在2023年上半年的凈利潤將達到約1.18億元，較去年同期增加約8963萬元，同比增長率約316%。此外，扣除非經常性損益后的凈利潤預計為約2450萬元，同比增長率約0.14%。

旗下凱世通、嘉芯雙重助力萬業高質量發展

萬業企業旗下凱世通是國內領先的中高端集成電路離子注入機裝備企業，憑借強勁發展勢能，正在成長為國產第一梯隊核心設備廠商。目前，凱世通產品已覆蓋邏輯、存儲、功率等多個應用領域方向，是國內首家集成電路離子注入機低能大束流和高能離子注入機獲得驗證驗收的設備企業。

另外萬業集成電路前道裝備另一核心子公司，嘉芯半導體產品覆蓋刻蝕、薄膜沉積、快速熱處理、Local Scrubber、真空泵等多個品類。公司成立僅一年多時間就已快速組建團隊、獲取訂單并開啟交付進程，一舉成為本土半導體核心裝備新銳企業之一。

在近日舉辦的全球半導體和電子行業年度盛會 SEMICON China 2023中，凱世通和嘉芯半導體的集成電路前道設備產品受到了參會嘉賓高度的關注與肯定。

“1+N”平臺化發展打開成長空間

2023年，萬業企業進一步推進戰略重心不斷向半導體產業轉移，橫向拓展薄膜沉積、刻蝕、離子注入等晶圓廠的設備環節，實現“1+N”平臺化發展，

在半導體業務方面，凱世通和嘉芯半導體持續與集成電路芯片制造廠客戶對接。作為國內首個獲得驗證驗收的國產集成電路離子注入機低能大束流和高能離子注入機供應商，凱世通一直處于相關系列產品的領先地位，并逐步邁向國產第一梯隊核心設備廠商。目前凱世通覆蓋了邏輯、存儲、功率等多個應用領域方向和多個主流的供應廠商。

與此同時，嘉芯半導體陸續向市場推出系列多元化的設備產品，并形成商業訂單。具體包含氮化硅等離子刻蝕機、金屬等離子刻蝕機、側墻等離子刻蝕機、高密度等離子薄膜沉積設備(HDP-CVD)、二氧化硅等離子薄膜沉積設備(PECVD)、摻雜硼磷二氧化硅薄膜化學沉積設備(SACVD)、鈦/氮化鈦沉積設備(MOCVD)、鋁銅金屬濺射設備(PVD)、快速熱處理(RTP)和雙燃燒+雙水洗尾氣處理設備等，可為客戶提供一站式解決方案。

在未來發展戰略方面，萬業企業表示，將錨定聚焦半導體設備業務領域，完善產業鏈布局，并以“1+N”設備平臺化戰略為抓手，持續加大對技術研發的資金投入和專業人才的吸納引進，茁長根基發展韌性，實現穩健經營，為集成電路設備制造國產化貢獻力量。